Pat

J-GLOBAL ID：200903072963981143

試験状態の評価方法及び試験機及び試験条件の評価方法。

Inventor： 加納 誠介 ,  志村 洋文 ,  本間 一弘 ,  佐々木 信也
Applicant, Patent owner： 独立行政法人産業技術総合研究所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004060614
Publication number (International publication number)：2004325438
Application date： Mar. 04, 2004
Publication date： Nov. 18, 2004
Summary：

【課題】 機械加工や機械試験の状態、切削・研削・その他エネルギー加工などの機械加工の状態、標準の物質や材料を用いた試験機の状態、標準の試験機械を用いた被加工物の状態を、連続した同一場所の観察・画像記録を行い、画像解析することで評価する方法を提供する。【解決手段】試験評価中の被試験評価物の表面状態変化を、被試験物の同一場所において観察・画像記録を間歇的に行い、画像解析し、特徴抽出を行う方法において、実際の機械における観察・画像記録及び画像解析・特徴抽出を行った結果と、試験機における同項目の結果について、少なくとも1つの画像の特徴または特徴の時間変化について相互関係の変化を求め、比較することによる試験状態の評価方法。【選択図】 図4

Claim (excerpt)：

試験評価中の被試験評価物の表面状態変化を、被試験物の同一場所において観察・画像記録を間歇的に行い、画像解析し、特徴抽出を行う方法において、実際の機械における観察・画像記録及び画像解析・特徴抽出を行った結果と、試験機における同項目の結果について、少なくとも1つの画像の特徴または特徴の時間変化について相互関係の変化を求め、比較することによる試験状態の評価方法。

IPC (3)：

G01N3/56 ,  G01N3/58 ,  G01N21/84

FI (3)：

G01N3/56 Q ,  G01N3/58 Z ,  G01N21/84 Z

F-Term (7)：

2G051AA00 ,  2G051AB20 ,  2G051BA10 ,  2G051BC03 ,  2G051CA03 ,  2G051CB01 ,  2G051EA14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

• 特開昭56-14529号公報
  
• 特開平01-162584号公報
  
• 特開平3-067376
  
• 特開昭52-129457
  

Cited by examiner (2)

• 特開平3-067376
  
• 特開昭52-129457