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J-GLOBAL ID:200903072965769052
レイアウトパターンの作成方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (6):
三好 秀和
, 岩▲崎▼ 幸邦
, 川又 澄雄
, 伊藤 正和
, 高橋 俊一
, 高松 俊雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007006087
Publication number (International publication number):2007129265
Application date: Jan. 15, 2007
Publication date: May. 24, 2007
Summary:
【課題】 アパーチャ上のキャラクタ数の低減とビームの照射回数の低減が可能なレイアウトパターンの作成方法を提供する。【解決手段】 システム仕様を論理式で記述し、セルライブラリ記録部からセルを選択し、論理式から前記セルによるネットリストを生成する。次に、セルキャラクタ変換ライブラリ記録部を用いて、セルによるネットリストを、機能キャラクタとバッファキャラクタによるネットリストに変換する。最後に、バッファキャラクタライブラリ記録部と機能キャラクタライブラリ記録部を参照し、機能キャラクタとバッファキャラクタによるネットリストに対応して、機能キャラクタとバッファキャラクタの配置と、機能キャラクタとバッファキャラクタ間の配線を行なう。【選択図】 図7
Claim (excerpt):
システム仕様を論理式で記述するステップと、
機能キャラクタ毎に、大きさ、機能、実レイアウトパターン、入出力の位置とアパーチャ上の位置が読み出し可能な機能キャラクタライブラリ記録部を形成するステップと、
前記機能キャラクタライブラリ記録部から前記機能キャラクタを選択し、前記論理式からネットリストを生成するステップと、
前記機能キャラクタライブラリ記録部を参照し、前記ネットリストに対応して、前記機能キャラクタの配置と、前記機能キャラクタ間の配線を行うステップとを有することを特徴とするレイアウトパターンの作成方法。
IPC (2):
FI (3):
H01L21/30 541J
, G03F7/207 H
, H01L21/30 541S
F-Term (3):
5F056AA06
, 5F056CA02
, 5F056CA11
Patent cited by the Patent: