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J-GLOBAL ID：200903072978679834

反射防止フィルタおよびその製造方法ならびにこの反射防止フィルタを用いた表示装置

Inventor： 近藤 洋文 ,  花岡 英章
Applicant, Patent owner： ソニー株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996309564
Publication number (International publication number)：1998148701
Application date： Nov. 20, 1996
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：

【要約】【課題】 耐汚染性、耐磨耗性が向上した反射防止フィルタおよびその製造方法、ならびにこれを用いた表示装置を提供する。【解決手段】 誘電体材料からなる反射防止層表面に、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物とを含む被膜を形成する。【効果】 下地反射防止層、および被膜内分子間の相互作用が高く、強固な被膜を形成することができる。

Claim (excerpt)：

透明基材の表面に少なくとも1層の誘電体薄膜からなる反射防止層を有する反射防止フィルタにおいて、前記反射防止層表面に、下記一般式(1)で示されるパーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン化合物と、下記一般式(2)で示される長鎖炭化水素基を有するアルコキシシラン化合物と、を含む被膜を有することを特徴とする反射防止フィルタ。Rf(CO-X-R1 -Si(OR2 )3 )n (1)R3 -Si(OR2 )3 (2)(但し、Rfはパーフルオロポリエーテル基を、R1 はアルキレン基を、R2はアルキル基を、R3 は炭素数10以上の長鎖炭化水素基を、そしてXは-O-、-NH-および-S-から選ばれる基を、nは2以下の自然数をそれぞれ表す。)

IPC (4)：

G02B 1/11 ,  C08L 83/00 ,  C09D183/04 PMV ,  G02F 1/1335

FI (4)：

G02B 1/10 A ,  C08L 83/00 ,  C09D183/04 PMV ,  G02F 1/1335