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J-GLOBAL ID：200903073017228440
液晶光学素子の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
穂高 哲夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995127978
Publication number (International publication number)：1995311394
Application date： Jul. 26, 1988
Publication date： Nov. 28, 1995
Summary：
【要約】【目的】 厚いセルにおいてもリタデーション値が小さく、着色や色むらが少なく、双安定性に優れ、変形に対しての寸法、配向安定性に優れた液晶光学素子を歩止りよく低コストで製造できる製造方法を提供する。【構成】 強誘電性液晶物質と架橋性樹脂とを混合したものを電極付き基板の電極上に製膜し、次いで電極付き基板を積層し、架橋処理を行う液晶光学素子の製造方法。
Claim (excerpt)：
強誘電性液晶物質と架橋性樹脂とを混合したものを電極付き基板の電極上に製膜し、次いで電極付き基板を積層し、架橋処理を行うことを特徴とする液晶光学素子の製造方法。
IPC (3)：
G02F 1/141
, G02F 1/1333
, C09K 19/54
