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J-GLOBAL ID：200903073021468757

高周波加熱装置

Inventor： 古沢 良一 ,  林 孝宏 ,  林 泰希
Applicant, Patent owner： 三洋電機株式会社
Agent (1)： 西野 卓嗣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991266180
Publication number (International publication number)：1993106852
Application date： Oct. 15, 1991
Publication date： Apr. 27, 1993
Summary：

【要約】【目的】 電子レンジのコスト高を招くことなく、マグネトロン、高圧トランス、赤外線温度検出装置の冷却効率を向上する。【構成】 加熱室に隣接する電装室1に、加熱室内に供給する高周波を発生するマグネトロン2と、マグネトロン2に高圧を供給する高圧トランス3と、マグネトロン2及び高圧トランス3に冷却風を供給する第1及び第2プロペラファン4、5とを内蔵した電子レンジにおいて、第1及び第2プロペラファン4、5を電装室1内の下方に配置するとともにマグネトロン2及び高圧トランス3を第1及び第2プロペラファン4、5の上方に配置し、且つマグネトロン2と高圧トランス3の間の空間に冷却風取り入れ口17が臨み取り入れた冷却風を赤外線温度検出装置15へ導く冷却ダクト16を設ける。

Claim (excerpt)：

加熱室に隣接する電装室に、上記加熱室内に供給する高周波を発生する高周波発生手段と、この高周波発生手段に高圧を供給する高圧トランスと、これら高周波発生手段及び高圧トランスに冷却風を供給する冷却装置とを内蔵した高周波加熱装置において、上記冷却装置を上記電装室内の下方に配置するとともに上記高周波発生装置及び高圧トランスを上記冷却装置の上方に配置し、且つ上記高周波発生装置と高圧トランスの間の空間に冷却風取り入れ口が臨み取り入れた冷却風を要冷却部品へ導く冷却ダクトを設けたことを特徴とする高周波加熱装置。

IPC (2)：

F24C 7/02 541 ,  H05B 6/64

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭62-128475
  
• 特開昭58-142127