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J-GLOBAL ID：200903073022516950

基礎化粧料

Inventor： 渡辺 博 ,  岡田 正紀
Applicant, Patent owner： ポーラ化成工業株式会社
Agent (1)： 遠山 勉 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993031639
Publication number (International publication number)：1994247835
Application date： Feb. 22, 1993
Publication date： Sep. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 肌に滑らかさやしっとり感を付与する効果に優れ、かつ、皮膚への吸着性が高い基礎化粧料を提供する。【構成】 化1又は化2で表されるスルホン酸変性シリコーンを基礎化粧料に配合する。【化1】【化2】

Claim (excerpt)：

化1で表されるスルホン酸変性シリコーンを含有する基礎化粧料。【化1】ただし、R1はメチル基、フェニル基、R2はアリーレン基、アルキレン基、アルカリーレン基又はアラルキレン基、Aは水素原子、アルカリ金属、有機アミン塩を、m、nは各々10〜200、50〜2000の整数を表す。

IPC (4)：

A61K 7/48 ,  A61K 7/00 ,  C08G 77/392 NUF ,  C08L 83/08 LRT