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J-GLOBAL ID:200903073078345279

高透磁率、低鉄損の極薄アモルファス合金

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 須山 佐一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996053373
Publication number (International publication number):1996229642
Application date: Mar. 03, 1987
Publication date: Sep. 10, 1996
Summary:
【要約】【課題】 ピンホール等のない良好な状態で、板厚が10μm 以下の極薄アモルファス合金が求められている。【解決手段】 一般式:[(Co1-x Fex )1-y My ] 100-z Yz (式中、 MはCr、Mo、 W、 Cr+Mo、Cr+W、 Cr+Mo+Wから選ばれる 1種を、 YはSi、 B、 P、 Cから選ばれる 1種以上を示し、 x、 yおよび zは0.02≦ x≦0.1 、 0.005≦ y≦0.1、18≦z ≦30である)で表される合金であり、板厚が10μm 以下である、高透磁率、低鉄損の極薄アモルファス合金である。
Claim (excerpt):
一般式:[(Co1-x Fex )1-y My ] 100-z Yz(式中、 MはCr、Mo、 W、 Cr+Mo、Cr+W、 Cr+Mo+Wから選ばれる 1種を、 YはSi、 B、 P、 Cから選ばれる 1種以上を示し、 x、 yおよび zは0.02≦ x≦0.1 、0.005≦ y≦0.1 、18≦z ≦30である)で表される合金であり、板厚が10μm 以下であることを特徴とする高透磁率、低鉄損の極薄アモルファス合金。
IPC (2):
B22D 11/06 360 ,  C22C 45/04
FI (2):
B22D 11/06 360 B ,  C22C 45/04 E
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開昭62-027537
  • 特開昭62-029105
  • 特開昭61-261451
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