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J-GLOBAL ID：200903073089741770

再使用可能な基質を用いる平版印刷法

Inventor： エリク・ベルシユエレン ,  ジヨアン・ベルメールシユ
Applicant, Patent owner： アグフア-ゲヴエルト・ナームローゼ・フエンノートシヤツプ
Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001006223
Publication number (International publication number)：2001246725
Application date： Jan. 15, 2001
Publication date： Sep. 11, 2001
Summary：

【要約】【課題】 印刷マスターのインキ-受容性領域を有効に除去し、基質を次の印刷サイクルで再使用することができる清浄化段階を含んでなり、印刷機及び清浄化装置のハードウェアに影響を与えない清浄化液を用いる平版印刷法を提供すること。【解決手段】 印刷マスターの平版基質のリサイクルを可能にする平版印刷のダイレクト-ツウ-プレート法を開示する。該方法は、(a)疎水性熱可塑性ポリマー粒子及び親水性結合剤を含んでなるコーティング溶液を親水性基質上にコーティングすることによりネガティブ-作用性画像形成材料を作製し;(b)画像形成材料を画像通りに露出することによってインキ-受容性領域を有する印刷マスターを作製し;(c)印刷マスターにインキ及び湿し液を適用し;(d)アミド及び好ましくはアルカノールアミンも供給することによって印刷マスターからインキ-受容性領域を除去する段階を含んでなる。上記の段階は好ましくはオン-プレスで行われる。

Claim (excerpt)：

(a)疎水性熱可塑性ポリマー粒子及び親水性結合剤を含んでなるコーティング溶液を親水性表面上にコーティングすることによりネガティブ-作用性画像形成材料を作製し;(b)画像形成材料を画像通りに露出することによってインキ-受容性領域を有する印刷マスターを作製し;(c)印刷マスターにインキ及び湿し液を適用し;(d)アミド及び好ましくはまたアルカノールアミンも含んでなる清浄化液を供給することによって印刷マスターからインキ-受容性領域を除去する段階を含む、親水性表面を有する再使用可能な基質を用いる平版印刷のダイレクト-ツウ-プレート法。

IPC (5)：

B41C 1/10 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/42

FI (5)：

B41C 1/10 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/42