Pat
J-GLOBAL ID：200903073091713333
パターン検査方法及びパターン検査装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997100151
Publication number (International publication number)：1998293847
Application date： Apr. 17, 1997
Publication date： Nov. 04, 1998
Summary：
【要約】【課題】 パターンの欠陥を高速に、かつ正しく検出する。【解決手段】 被測定パターンのCADデータから第1のマスタパターンを作成する(ステップ102)。第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に収縮処理して欠損又は断線検出用の第2のマスタパターンを作成し、第1のマスタパターンをその中心線と直角の方向に膨張処理して突起又は短絡検出用の第3のマスタパターンを作成する(ステップ103)。第2、第3のマスタパターンと対応する領域についてはそれぞれ別のしきい値に基づいて2値化を行う(ステップ106)。2値化された被測定パターンと第2、第3のマスタパターンの論理積をとることにより、被測定パターンの欠陥を検出する(ステップ108)。
Claim (excerpt)：
被測定パターンと比較するための基準となる第1のマスタパターンを収縮処理して欠損又は断線検出用の第2のマスタパターンを作成すると共に、前記第1のマスタパターンを膨張処理して突起又は短絡検出用の第3のマスタパターンを作成し、被測定パターンの濃淡画像において、パターンの濃度値と背景の濃度値の間の値を第1のしきい値とし、前記パターン濃度値と第1のしきい値の間の値を第2のしきい値とし、前記第1のしきい値と背景濃度値の間の値を第3のしきい値とし、被測定パターンの濃淡画像のうち、第2のマスタパターンと対応する領域については第2のしきい値に基づいて2値化を行い、第3のマスタパターンと対応する領域については第3のしきい値に基づいて2値化を行い、それ以外の領域については第1のしきい値に基づいて2値化を行い、2値化処理された被測定パターンからパターンエッジを示すエッジデータを抽出し、この被測定パターンのエッジデータと第2のマスタパターンの論理積をとると共に前記エッジデータと第3のマスタパターンの論理積をとることにより、被測定パターンの欠陥を検出することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (3)：
G06T 7/00
, G01B 11/30
, G01N 21/88
G06F 15/62 405 A
, G01B 11/30 G
, G01N 21/88 F
