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J-GLOBAL ID：200903073094346838

高輝度X線又はγ線の発生方法及び装置

Inventor： 今崎 一夫
Applicant, Patent owner： 財団法人レーザー技術総合研究所
Agent (1)： 鎌田 文二 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994048641
Publication number (International publication number)：1995110400
Application date： Mar. 18, 1994
Publication date： Apr. 25, 1995
Summary：

【要約】【目的】 超高反射率ミラーを用いた光共振器でレーザー光を蓄積し、これを利用して小さな初期レーザーからでも強力な高輝度X線又はγ線を得る。【構成】 レーザー1からのレーザー光を光共振器2へ送りそこでレーザー光を蓄積する。光共振器2は超高反射率ミラー21、22を有し、ミラーの反射効率は0.999%以上のものである。この光共振器2へ電子ビームを斜めに入れて衝突させ、その相互作用域でコンプトン散乱によるX線又はγ線を発生させる。

Claim (excerpt)：

2つの超高反射ミラーを互いに対向して置いた光子蓄積空胴内にレーザー光を導入して空胴内に蓄積し、電子ビームを相対論的速度に加速した状態でミラー間を往復するレーザー光の光路に導入して光路に交差させその相互作用域からX線又はγ線を発生する高輝度X線又はγ線の発生方法。

IPC (4)：

G21K 5/02 ,  H01L 21/027 ,  H01S 3/00 ,  H01S 3/0959

FI (2)：

H01L 21/30 531 A ,  H01S 3/09 C