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J-GLOBAL ID：200903073138123700

中塩素注入制御装置

Inventor： 青山 宜弘 ,  二木 昭 ,  信友 義弘
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所 ,  株式会社日立情報制御システム
Agent (1)： 小川 勝男
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993276444
Publication number (International publication number)：1995124568
Application date： Nov. 05, 1993
Publication date： May. 16, 1995
Summary：

【要約】【目的】最適な中塩素注入率を無駄時間なしに算出すること。【構成】塩素注入機および塩素混和渠から構成される中塩素注入設備において、中塩素注入点前の残留塩素及び塩素要求量を測定し、塩素混和渠後の残留塩素が一定範囲に収まるように中塩素注入率を算出する中塩素注入制御装置。【効果】本発明によれば、中塩素注入点前の塩素要求量が検出されるかどうかにかかわらず、最適な中塩素注入率を無駄時間なしに算出することができるので、水質の幅広い範囲で中塩素注入制御できる効果がある。

Claim (excerpt)：

塩素注入機および塩素混和渠から構成される中塩素注入設備において、中塩素注入点前の残留塩素及び塩素要求量を測定し、塩素混和渠後の残留塩素が一定範囲に収まるように中塩素注入率を算出することを特徴とする中塩素注入制御装置。

IPC (6)：

C02F 1/50 510 ,  C02F 1/50 520 ,  C02F 1/50 531 ,  C02F 1/50 540 ,  C02F 1/50 550 ,  C02F 1/76