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J-GLOBAL ID：200903073169878733
分布帰還型レーザ及びその製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998110529
Publication number (International publication number)：1999307856
Application date： Apr. 21, 1998
Publication date： Nov. 05, 1999
Summary：
【要約】【課題】 放射モードの損失によるしきい値の上昇を抑制するとともに、空間ホールバーニングも抑制することができる分布帰還型レーザ及びその製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 2次の回析格子を有する分布帰還型レーザにおいて、基板側のみに設けられていた高反射構造を基板と反対側にも設けることによって、2次の回折格子により放射モードを制御することができる。また、それぞれの反射鏡の反射率を、共振器軸方向もしくは導波路横方向で変化させることによって、端面放射型レーザにおいては、しきい値を下げることができ、空間ホールバーニングを抑制することができる。一方、面発光型DFBレーザにおいても、窓領域以外での導波路部分を高反射構造で挟むことによって放射モードを抑制し、しきい値を下げることができる。さらに、2次の回折格子を用いるため、製作も容易である。
Claim (excerpt)：
導波路に沿って2次の回折格子を有する分布帰還型レーザであって、前記導波路の上側と下側の両方に放射モード光を前記導波路に戻すための高反射構造を具備することを特徴とする分布帰還型レーザ。
IPC (2)：
FI (2)：
Patent cited by the Patent：
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