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J-GLOBAL ID：200903073182344209

基板のクリーニング方法およびその装置

Inventor： 野中 俊孝
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝 ,  東芝電子エンジニアリング株式会社
Agent (1)： 樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993325387
Publication number (International publication number)：1995181467
Application date： Dec. 22, 1993
Publication date： Jul. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】 クリーン度を低下させることなく基板をクリーニングする基板のクリーニング装置を提供する。【構成】 ステージ14上のダミープレート18,19間にガラス基板Gを真空吸着より保持する。ステージ14ごとガラス基板Gが移動し、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズル12から吹き出した高速度の空気を、ガラス基板Gの表面に衝突させ、ガラス基板Gの表面上の塵埃を除去すると同時にバキューム側ノズル13から吸い込ませ、付着物を除去する。ガラス基板Gのクリーニングの前後では、クリーニングヘッド11のプレッシャー側ノズル12とバキューム側ノズル13とを、ガラス基板Gの厚さと同じ間隙でシャッタ16,17が閉塞しているため、プレッシャー側ノズル13から吹き出される高速度の空気を、シャッタ16,17で反射してバキューム側ノズル13から吸い込み、クリーン度の低下を防止する。

Claim (excerpt)：

基板の表面に高速度の空気を吹き付け、この吹き付けられた空気を前記基板の表面で反射して吹き付けられた空気に対応して空気を塵埃とともに吸い込む基板のクリーニング方法において、前記基板に高速度の空気を吹き付ける前後では、空気の吹き付けを反射させて吸い込ませることを特徴とする基板のクリーニング方法。

IPC (4)：

G02F 1/1333 500 ,  B08B 5/00 ,  B08B 11/04 ,  G02F 1/13 101