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J-GLOBAL ID：200903073218499549

プロセス制御方法及びその制御装置

Inventor： 宮垣 久典 ,  遠山 栄二 ,  菅野 彰 ,  野村 政英
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高崎 芳紘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991244548
Publication number (International publication number)：1993053605
Application date： Aug. 29, 1991
Publication date： Mar. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】 制御量の応答遅れが大きく、応答特性が非線形的でも、出力を要求負荷に対して迅速に、安定に、かつ正確に追従させるプロセス制御方式及びその制御装置。【構成】 プロセス制御装置は、負荷指令(Ld)よりプロセス操作量の基本目標指令(Frdo)を作成する基本プログラム回路(830)と、検出されたプロセス制御量と制御量設定値との偏差(ET)から補正信号を作成する補正回路(820)と、基本目標指令(Frdo)を補正する加速回路(410)とから構成され、その加速回路(410)は、負荷指令(Ld)と、さらに、前記偏差(ET)とを入力として、前記偏差を最小にするような加速信号(AFrd)を作成する。この加速回路(410)は、例えばニューラルネットワークから、あるいは、ファジイ推論を利用して構成されている。

Claim (excerpt)：

プロセスの負荷指令より基本目標指令を作成し、検出されたプロセス制御量と制御量設定値との偏差から前記基本目標指令を補正する補正信号を形成し、前記負荷指令の変化状況に基づいて前記基本目標指令を補正する加速信号を形成し、これら基本目標指令、補正信号及び加速信号を用いて該プロセスの操作量を決定するプロセス制御方法において、前記加速信号を、前記負荷指令の変化状況と共に、さらに、前記検出されたプロセス制御量と制御量設定値との偏差から、前記偏差が最小となるように形成することを特徴とするプロセス制御方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開昭58-189702
  
• 特開平2-054304
  
• 特開平2-222004
  
• 特開平3-164804