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J-GLOBAL ID：200903073223440862

ホログラフィック偏光ビームスプリッタ

Inventor： 斉藤 律 ,  森田英明 ,  谷口幸夫
Applicant, Patent owner： 大日本印刷株式会社
Agent (1)： 韮澤 弘 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994026531
Publication number (International publication number)：1995234316
Application date： Feb. 24, 1994
Publication date： Sep. 05, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ホログラムを用いた偏光ビームスプリッタにおいて、P偏光とS偏光の分離角、分離間隔を小さくする光学的構成。【構成】 直交する2つの偏光成分であるP偏光成分とS偏光成分が混合した光束を所定割合でP偏光成分とS偏光成分に分離する偏光ビームスプリッタとして、厚みを有する板状透明記録材料中に屈折率変調により記録された干渉縞を有するホログラム10を備えてなり、ホログラム10の透過成分と1次回折成分との成す角度を縮小させるか、両成分間の間隔を短くするように、両成分の何れか一方又は両方の成分が射出する位置に光路を曲げる光学素子12が設けられている。

Claim (excerpt)：

直交する2つの偏光成分であるP偏光成分とS偏光成分が混合した光束を所定割合でP偏光成分とS偏光成分に分離する偏光ビームスプリッタとして、厚みを有する板状透明記録材料中に屈折率変調により記録された干渉縞を有するホログラムを備えてなり、該ホログラムの透過成分と1次回折成分との成す角度を縮小させるか、前記両成分間の間隔を短くするように、前記両成分の何れか一方又は両方の成分が射出する位置に光路を曲げる光学素子が設けられてなるホログラフィック偏光ビームスプリッタ。

IPC (3)：

G02B 5/30 ,  G02B 5/32 ,  G02B 27/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 光磁気記録再生装置における光ピツクアツプ装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-248721   Applicant：シヤープ株式会社
• 特開平4-360103
  
• 特開昭62-248143