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J-GLOBAL ID：200903073240825816

汚水処理装置およびその運転方法

Inventor： 和泉 清司 ,  山田 豊 ,  塗師 雅治
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 森本 義弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996081070
Publication number (International publication number)：1997271796
Application date： Apr. 03, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 生活排水などの汚水を脱窒槽と硝化槽と第2脱窒槽と再曝気槽に順次導入して脱窒素する汚水処理装置において、膜分離装置を設置した再曝気槽での硝酸性窒素の発生を抑制する。【解決手段】 硝化槽22の内部に別途に膜分離装置34を設置し、再曝気槽24は通常流入量相当の汚水量を処理可能な膜分離装置35を収容できる槽容積に構成する。再曝気槽24の槽容量が従来より小さくなるので、再曝気槽24における槽内滞留時間を短くすることができ、脱窒菌などの内性呼吸による硝酸性窒素の発生を抑制できる。

Claim (excerpt)：

脱窒槽と硝化槽と第2脱窒槽と再曝気槽とをこの順に配置し、生活排水などの汚水を導入する汚水導入手段を脱窒槽内に開口させ、脱窒槽と硝化槽と第2脱窒槽の内部の活性汚泥混合液をそれぞれ後段の槽に送る第1と第2と第3の送液手段と、硝化槽内の活性汚泥混合液の一部を脱窒槽に循環返送する循環手段とを設け、再曝気槽の内部に浸漬型膜分離装置を設置した汚水処理装置において、前記硝化槽の内部に別途に浸漬型膜分離装置を設置し、前記再曝気槽は通常流入量相当の汚水量を処理可能な浸漬型膜分離装置を収容できる槽容積に構成したことを特徴とする汚水処理装置。

IPC (3)：

C02F 3/30 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/12

FI (4)：

C02F 3/30 A ,  C02F 1/44 K ,  C02F 3/12 M ,  C02F 3/12 S

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平3-232597
  
• 特開平3-077699
  
• 特開昭60-094196
  

Cited by examiner (3)

• 特開平3-232597
  
• 特開平3-077699
  
• 特開昭60-094196