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J-GLOBAL ID:200903073250368286

水浄化装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 小鍜治 明 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1991303008
Publication number (International publication number):1993138194
Application date: Nov. 19, 1991
Publication date: Jun. 01, 1993
Summary:
【要約】【目的】 水のPHを8前後に維持し、酸素を供給して硝化細菌による浄化性能を向上させ、水中に発生する病原菌や藻類を除去できる水浄化装置を提供する。【構成】 水槽1の排水口2の下流に水圧送手段5を接続し、水圧送手段5の下流に空気供給手段6を接続し、空気供給手段6の下流に中性担体に硝化細菌を固定した固定担体Aと塩基性担体に硝化細菌を固定した固定担体Bを内蔵した水浄化モジュール7を接続し、水浄化モジュール7の下流にヒータ11と紫外線ランプ12を内蔵した加熱殺菌モジュール8を接続し、加熱殺菌モジュール8の下流を上記水槽1の給水口9に接続し、水圧送手段5および加熱殺菌モジュール8に制御手段10を接続した。
Claim (excerpt):
水槽の排水口の下流に水圧送手段を接続し、その水圧送手段の下流に空気供給手段を接続し、その空気供給手段の下流に中性担体に硝化細菌を固定した固定担体Aと塩基性担体に硝化細菌を固定した固定担体Bを内蔵した水浄化モジュールを接続し、その水浄化モジュールの下流にヒータと紫外線ランプを内蔵した加熱殺菌モジュールを接続し、その加熱殺菌モジュールの下流を上記水槽の給水口に接続し、上記水圧送手段および加熱殺菌モジュールに制御手段を接続した水浄化装置。
IPC (7):
C02F 9/00 ,  A01K 63/04 ,  C02F 1/02 ,  C02F 1/32 ,  C02F 3/06 ,  C02F 3/10 ,  C02F 3/34 101

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