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J-GLOBAL ID:200903073253755590

溶解炉内ガス流の冷却方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 香取 孝雄
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2001500179
Publication number (International publication number):2003500631
Application date: May. 12, 2000
Publication date: Jan. 07, 2003
Summary:
【要約】本発明は、フラッシュ溶解炉などの溶解炉内のアップテークを通って排出されるガス流を微粒子状に分散された液体スプレーを用いて冷却することにより、ガス流中に含まれる固体粒子の凝着と焼結を防ぐ方法に関するものである。
Claim (excerpt):
溶解炉の排ガス流に乗って流れる微粉状固形物が該溶解炉の排ガス出口に焼結することを防止する方法において、排ガス流が溶解炉から排出される前に炉内で冷却することを特徴とする方法。
IPC (2):
F27D 17/00 104 ,  F27B 3/10
FI (2):
F27D 17/00 104 D ,  F27B 3/10
F-Term (12):
4K045AA00 ,  4K045AA04 ,  4K045BA03 ,  4K045CA02 ,  4K045RB00 ,  4K056AA05 ,  4K056BA02 ,  4K056BB01 ,  4K056CA04 ,  4K056DB22 ,  4K056DC00 ,  4K056EA00

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