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J-GLOBAL ID：200903073287695325

薄膜型表皮効果素子

Inventor： 岸本英樹 ,  斎藤兆古 ,  奥村益作
Applicant, Patent owner： 大塚サイエンス株式会社 ,  株式会社写真化学
Agent (1)： 蛭川 昌信 (外7名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995165157
Publication number (International publication number)：1996191014
Application date： Jun. 30, 1995
Publication date： Jul. 23, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 巻線導体の表皮効果を利用した素子における漏れ磁束を少なくし、熱放散を促進して温度上昇を抑える。【構成】 基板1上に1本または複数の導体巻線が複数ターン近接して巻回形成され、導体巻線の形成されていない領域に基板1を貫通するヌキ孔を形成、及び/又は導体巻線と基板1を貫通するスルーホールを形成したこと、導体巻線の幅及び/又は導体巻線間ギャップを不均一にしたこと、幅の広い導体巻線に、その長さ方向に1本ないし数本のスリットを入れたことを特徴とする。

Claim (excerpt)：

基板上に一本または複数本の導体巻線が近接して複数ターン巻回形成され、導体巻線の形成されていない領域に基板を貫通するヌキ孔を形成、及び/又は導体巻線と基板を貫通するスルーホールを形成したことを特徴とする薄膜型表皮効果素子。

IPC (5)：

H01F 17/00 ,  H01F 30/00 ,  H01F 19/00 ,  H01F 27/28 ,  H01F 30/08

FI (4)：

H01F 15/14 ,  H01F 31/00 S ,  H01F 31/00 D ,  H01F 39/00