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J-GLOBAL ID：200903073302022413

パーティクルモニタ付きプラズマ処理装置

Inventor： 中東 孝浩 ,  桑原 創
Applicant, Patent owner： 日新電機株式会社
Agent (1)： 谷川 昌夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992272716
Publication number (International publication number)：1994124902
Application date： Oct. 12, 1992
Publication date： May. 06, 1994
Summary：

【要約】【目的】 プラズマ中のパーティクル発生を抑制するように、若しくは一旦発生したパーティクルをできるだけ室外へ排出できるように、又はこれら双方を行い得るように排気手段、プロセスガス導入手段及び高周波電圧印加手段のうち少なくとも一つを制御するために、プラズマ中のパーティクルの状態を観測できるパーティクルモニタ付きのプラズマ処理装置を提供する。【構成】 プラズマ処理室1内に設置した高周波電極2とこれに対向する接地電位の電極3のうち一方に被処理基体90を設置し、室1内を排気ポンプ52により所定処理真空度に維持しつつ両電極2、3間にプロセスガスを導入するとともに高周波電極2に高周波電圧を印加して該ガスをプラズマ化し、該プラズマに基体90を曝すことで該基体に目的とするプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、プラズマ処理室1内のプラズマ生成領域を観測するCCDカメラ6を備えたことを特徴とするパーティクルモニタ付きプラズマ処理装置。

Claim (excerpt)：

プラズマ処理室内に設置した高周波電極とこれに対向する接地電位の電極のうち一方に被処理基体を設置し、前記プラズマ処理室内を排気手段により所定処理真空度に維持しつつ前記両電極間にプロセスガス導入手段にてプロセスガスを導入するとともに前記高周波電極に高周波電圧印加手段にて高周波電圧を印加して該ガスをプラズマ化し、該プラズマに前記基体を曝すことで該基体に目的とするプラズマ処理を施すプラズマ処理装置であって、前記プラズマ処理室内のプラズマ生成領域を観測するカメラ装置を備えたことを特徴とするパーティクルモニタ付きプラズマ処理装置。

IPC (5)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/302