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J-GLOBAL ID：200903073305531823

洗浄装置

Inventor： 西 光雄 ,  本田 儀幸 ,  黒田 幸輝 ,  向井 榮一
Applicant, Patent owner： 東京エレクトロン株式会社 ,  東京エレクトロン九州株式会社
Agent (1)： 須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992249252
Publication number (International publication number)：1993326476
Application date： Sep. 18, 1992
Publication date： Dec. 10, 1993
Summary：

【要約】【目的】 装置の駆動部等から発生した塵埃や、ウエハキャリア等の基板搬送用治具に付着していた塵埃や汚染物が半導体ウエハ等の被洗浄基板に付着し、被洗浄基板が汚染される可能性を従来に較べて大幅に低減することができ、良好な洗浄処理を行うことのできる洗浄装置を提供する。【構成】 洗浄装置1は、処理液を貯溜する複数の処理槽7と、ローダー部5に設けられたウエハキャリア9内から半導体ウエハを取り出し、搬送して処理槽7内の処理液に浸漬する搬送機構8と、半導体ウエハを取り出されたウエハキャリア9を搬送しつつ洗浄するキャリア搬送機構10とを具備している。

Claim (excerpt)：

処理液を貯溜する複数の処理槽と、所定のロード部に設けられた基板搬送用治具内から被洗浄基板を取り出し、該被洗浄基板を搬送して前記処理槽内の処理液に浸漬する基板搬送機構と、前記被洗浄基板を取り出された前記基板搬送用治具を洗浄する機構とを具備したことを特徴とする洗浄装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭52-139378
  
• 特開昭61-169412