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J-GLOBAL ID：200903073310424431

長波長対応体積位相型ホログラムの作製方法

Inventor： 小林 辰 ,  吉永 曜子 ,  谷口 尚郷 ,  森島 英樹 ,  須藤 敏行 ,  金子 正 ,  松村 進
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 吉田 勝広 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993072883
Publication number (International publication number)：1994258997
Application date： Mar. 09, 1993
Publication date： Sep. 16, 1994
Summary：

【要約】【目的】 回折波長が記録波長よりも長波長側に変更され、回折効率が高く、回折波長選択性が良好で且つ透明性の高いホログラムが得られるホログラムの作製方法を提供すること。【構成】 疎水性の光架橋性ポリマーと架橋剤とを主体とする感光性樹脂組成物からなる体積位相型ホログラム記録媒体を露光後現像する工程を含むホログラムの作製方法において、現像工程が、該記録媒体中に形成される回折格子間隔を拡げ、得られるホログラムの回折波長が記録波長よりも長波長側に変更され、且つ回折効率の波長依存性の半値幅が50nm未満となる条件で行われることを特徴とする体積位相型ホログラムの作製方法。

Claim (excerpt)：

疎水性の光架橋性ポリマーと架橋剤とを主体とする感光性樹脂組成物からなる体積位相型ホログラム記録媒体を露光後現像する工程を含むホログラムの作製方法において、現像工程が、該記録媒体中に形成される回折格子間隔を拡げ、得られるホログラムの回折波長が記録波長よりも長波長側に変更され、且つ回折効率の波長依存性の半値幅が50nm未満となる条件で行われることを特徴とする体積位相型ホログラムの作製方法。

IPC (4)：

G03H 1/02 ,  G03F 7/004 521 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038