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J-GLOBAL ID：200903073319526806
光ディスク原盤の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
松隈 秀盛
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992178461
Publication number (International publication number)：1994020307
Application date： Jul. 06, 1992
Publication date： Jan. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 光ディスク原盤製造工程における現像制御をより精度良く行って、ピット又はグルーブの形状を安定に精度良く形成することができるようにする。【構成】 基板上にレジストを塗布した後露光現像することにより所定の形状のピット又はグルーブを形成する光ディスク原盤の製造方法において、基板上にレジストを塗布して所定のピット又はグルーブ形状に露光した後、その一製造工程を図1に示すように、基板1に光を照射してこの基板1及びレジスト2からの反射回折光L0 及びL1 の1次光量I1 及び0次光量I0 の比を検出してピット又はグルーブの深さを制御しながら現像する。
Claim (excerpt)：
基板上にレジストを塗布した後露光現像することにより所定の形状のピット又はグルーブを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記基板上にレジストを塗布して上記所定のピット又はグルーブ形状に露光した後、上記基板に光を照射して上記基板及び上記レジストからの反射回折光の1次光量及び0次光量の比を検出して上記ピット又はグルーブの深さを制御しながら現像することを特徴とする光ディスク原盤の製造方法。
Patent cited by the Patent：
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