Pat

J-GLOBAL ID：200903073327314435

ポジ型感光性樹脂組成物

Inventor： 河辺 保雅 ,  佐藤 健一郎 ,  青合 利明
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998186273
Publication number (International publication number)：2000019736
Application date： Jul. 01, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：

【要約】【課題】 深紫外線、特にArF エキシマレーザー光に対して、特に残膜率、レジストパターンプロファイル、解像力、ドライエッチング耐性に優れ、しかも現像欠陥の問題を生じないポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 活性光線により酸を発生する化合物、特定の脂環式骨格構造を有する重合体、含窒素塩基性化合物、フッ素系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線により酸を発生する化合物、(B)下記一般式(I)で表される部分構造を有する重合体、(C)含窒素塩基性化合物、並びに(D)フッ素系及び/またはシリコン系界面活性剤を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。【化1】(上記一般式(I)において、R1はメチル基またはエチル基を表す。R2、R3は、各々独立に水酸基、カルボキシル基、アルキル基、アルコキシ基、置換アルキル基、置換アルコキシ基、又は環状アルキル基を表す。また、R2とR3とが結合して環を形成しても良い。Xは炭素数が2から20個の2価の有機残基を表す。R4は水素原子、アルキル基、置換アルキル基、環状アルキル基、置換環状アルキル基、又は-COOR4で酸の作用により分解する基を構成する基を表す。)

IPC (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/027

FI (5)：

G03F 7/039 601 ,  C08L 65/00 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 504 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (42)：

2H025AA00 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC03 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB55 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J002AC111 ,  4J002CE001 ,  4J002DD086 ,  4J002ED038 ,  4J002ED068 ,  4J002EE030 ,  4J002EH158 ,  4J002EN047 ,  4J002EN067 ,  4J002EN077 ,  4J002EQ007 ,  4J002EU047 ,  4J002EU077 ,  4J002EU117 ,  4J002EV246 ,  4J002EV247 ,  4J002EY026 ,  4J002FD146 ,  4J002FD150 ,  4J002FD206 ,  4J002FD318 ,  4J002GP03