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J-GLOBAL ID：200903073332639784

超純水製造装置

Inventor： 田辺 円 ,  金子 栄
Applicant, Patent owner： オルガノ株式会社
Agent (1)： 本多 小平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996005616
Publication number (International publication number)：1997192661
Application date： Jan. 17, 1996
Publication date： Jul. 29, 1997
Summary：

【要約】【課題】 廃液処理などの問題がなく環境保全性に優れた特質をもつ非再生型の超純水製造装置の特質を生かしつつ、近時において問題となってきたほう素の除去が可能な超純水製造装置を提供する。【解決手段】 前処理装置、脱塩装置、非イオン性物質除去装置を有する超純水製造装置の脱塩装置として2段RO装置103,104を備えるが、薬品再生型のイオン交換装置を備えていない超純水製造装置において、2段RO装置103,104に通水した被処理水をほう素選択性イオン交換樹脂に接触させるほう素除去装置1を設けた。

Claim (excerpt)：

原水に含まれる懸濁物質を除去する前処理装置、前処理済の被処理水中のイオンを除去する脱塩装置、及び前処理済の被処理水中の非イオン性物質を除去する非イオン性物質除去装置を有する超純水製造装置であって、脱塩装置として2段RO装置,電気再生式脱塩装置,蒸留装置の少なくともいずれかを備えるが、薬品再生型のイオン交換装置を備えていない超純水製造装置において、上記2段RO装置,電気再生式脱塩装置,蒸留装置のいずれかを通水した被処理水をほう素選択性イオン交換樹脂に接触させるほう素除去装置を設けたことを特徴とする超純水製造装置。

IPC (7)：

C02F 1/42 ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/04 ,  C02F 1/44 ,  C02F 1/469 ,  C02F 1/58

FI (7)：

C02F 1/42 A ,  B01D 61/08 ,  B01D 61/48 ,  C02F 1/04 Z ,  C02F 1/44 J ,  C02F 1/58 H ,  C02F 1/46 103