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J-GLOBAL ID：200903073339993923

光学特性の測定方法

Inventor： 塩出 吉宏
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (2)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002307333
Publication number (International publication number)：2004146454
Application date： Oct. 22, 2002
Publication date： May. 20, 2004
Summary：

【課題】投影光学系の波面収差を高精度に測定する。【解決手段】システムエラーとしての瞳面の位置ずれ量を算出し記憶しておき、投影光学系の波面収差を計算する際に記憶しておいた瞳面の位置ずれ量を反映させる。【選択図】 図16

Claim (excerpt)：

テストレチクルからの複数の光束の夫々を投影光学系の瞳面内の所定位置を通過させた後に別個に結像させて前記投影光学系の像面内での前記各光束の結像位置を検出するか或いは前記テストレチクルからの複数の光束の夫々を前記瞳面を通過させた後に互いに干渉させて結像させたときの前記像面内での結像位置を検出する段階と、該検出結果を用いて前記投影光学系の波面収差等の光学特性を求める段階とを含む光学特性の測定方法において、前記複数の光束が前記瞳面を通過するときの通過位置に関する誤差情報を検出し、該誤差情報を用いて前記波面収差を求めることを特徴とする光学特性の測定方法。

IPC (3)：

H01L21/027 ,  G01M11/02 ,  G03F7/20

FI (3)：

H01L21/30 516A ,  G01M11/02 B ,  G03F7/20 521

F-Term (8)：

2G086HH06 ,  5F046BA04 ,  5F046CB17 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05 ,  5F046EA07 ,  5F046EB02 ,  5F046EC05

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 波面収差測定方法及び投影露光装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-041676   Applicant：キヤノン株式会社