Pat
J-GLOBAL ID:200903073374226277
排ガス浄化装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
真田 有
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998284350
Publication number (International publication number):2000110554
Application date: Oct. 06, 1998
Publication date: Apr. 18, 2000
Summary:
【要約】【課題】 排ガス浄化装置に関し、排ガス浄化用触媒によるNOX 浄化能力を低下させずに、触媒のイオウ成分による被毒を抑制できるようにする。【解決手段】 希薄燃焼内燃機関の排気通路内に配設される排ガス浄化用触媒6を備え、排ガス浄化用触媒6が、第1多孔質担体に白金及びパラジウムのうちの少なくとも1種の第1貴金属及び第1吸蔵材を担持して構成されるNOX 吸蔵層6bと、NOX 吸蔵層6b上に被覆され、第1多孔質担体よりも比表面積が大で且つ孔径が小に構成された第2多孔質担体に第2貴金属及び第2吸蔵材を担持して構成されるSOX 吸蔵層6cとを有する。
Claim (excerpt):
希薄燃焼内燃機関の排気通路内に配設された排ガス浄化用触媒を備え、該排ガス浄化用触媒が、第1多孔質担体に白金及びパラジウムのうちの少なくとも1種の第1貴金属及び第1吸蔵材を担持して構成され、NOX を吸蔵しうるNOX 吸蔵層と、該NOX 吸蔵層上に被覆され、該第1多孔質担体よりも比表面積が大で且つ孔径が小に構成された第2多孔質担体に第2貴金属及び第2吸蔵材を担持して構成され、イオウ成分を吸蔵しうるSOX 吸蔵層とを有していることを特徴とする、排ガス浄化装置。
IPC (5):
F01N 3/28 301
, B01D 53/94
, F01N 3/08 ZAB
, F01N 3/10 ZAB
, F01N 3/24 ZAB
FI (5):
F01N 3/28 301 P
, F01N 3/08 ZAB A
, F01N 3/10 ZAB A
, F01N 3/24 ZAB E
, B01D 53/36 101 A
F-Term (72):
3G091AA12
, 3G091AA17
, 3G091AA24
, 3G091AA28
, 3G091AB03
, 3G091AB06
, 3G091AB08
, 3G091AB09
, 3G091BA11
, 3G091BA14
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091BA33
, 3G091BA39
, 3G091CA18
, 3G091CB02
, 3G091CB03
, 3G091DC01
, 3G091EA33
, 3G091EA34
, 3G091FB10
, 3G091FB11
, 3G091FB12
, 3G091FC02
, 3G091FC04
, 3G091GA06
, 3G091GB01X
, 3G091GB01Y
, 3G091GB02Y
, 3G091GB03Y
, 3G091GB05W
, 3G091GB06W
, 3G091GB07W
, 3G091GB09X
, 3G091GB10X
, 3G091GB16X
, 3G091HA08
, 3G091HA20
, 3G091HA36
, 3G091HA38
, 3G091HA47
, 4D048AA02
, 4D048AA06
, 4D048AA13
, 4D048AA18
, 4D048AB01
, 4D048AB02
, 4D048BA01Y
, 4D048BA03X
, 4D048BA06X
, 4D048BA11Y
, 4D048BA14Y
, 4D048BA15X
, 4D048BA16Y
, 4D048BA19X
, 4D048BA28Y
, 4D048BA30X
, 4D048BA31Y
, 4D048BA33Y
, 4D048BA34Y
, 4D048BA39X
, 4D048BB02
, 4D048BB17
, 4D048CA01
, 4D048CC32
, 4D048CC36
, 4D048CC46
, 4D048CC47
, 4D048DA01
, 4D048DA02
, 4D048DA08
, 4D048EA04
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