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J-GLOBAL ID：200903073377553465
プラズマ装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
守谷 一雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992087355
Publication number (International publication number)：1993291190
Application date： Apr. 08, 1992
Publication date： Nov. 05, 1993
Summary：
【要約】【目的】 被処理体へのスパッタや金属汚染のおそれが少なく、高密度プラズマを発生することができるプラズマ装置を提供する。【構成】 プラズマ発生電極を用いずに誘電体に所定形状のアンテナに高周波を印加することによってヘリコン波プラズマを発生させる。ヘリコン波プラズマから加速電極によって電子を引出すとともに加速し、反応性ガスが供給されている反応室に導入する。反応室では加速された電子により反応性ガスのプラズマが発生し、これによって被処理体に所定の処理をする。
Claim (excerpt)：
ヘリコン波プラズマを発生するプラズマ発生手段と、該プラズマ発生手段により発生したプラズマから電子を引出すための電子加速手段と、反応性ガスが供給されるとともに前記電子加速手段によって加速された電子により反応性ガスのプラズマを発生させ被処理体を処理するための反応室とを備えたことを特徴とするプラズマ装置。
IPC (3)：
H01L 21/302
, H01L 21/268
, H05H 1/46
