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J-GLOBAL ID：200903073381514008

回転式基板処理装置

Inventor： 藤田 充宏 ,  佐々木 忠司 ,  池田 昌秀 ,  西村 讓一
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (1)： 福島 祥人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995307714
Publication number (International publication number)：1997148295
Application date： Nov. 27, 1995
Publication date： Jun. 06, 1997
Summary：

【要約】【課題】 回転する基板の表面を均一に処理することができる回転式基板処理装置を提供することである。【解決手段】 ハウジング1内に基板100を吸引保持する回転保持部2が配設される。回転保持部2はモータ3により回転軸P1の周りで回転駆動される。回転保持部2の周囲には基板100を取り囲むようにカップ4が上下動自在に設けられる。カップ4の側方にはブラシアーム6がアーム駆動部7により回動軸P2の回りで回動可能に設けられる。ブラシアーム6の先端部にはブラシ駆動部8が設けられ、ブラシ駆動部8の下部に洗浄ブラシ9が取り付けられる。制御部11は、洗浄ブラシ9が回転する基板100の表面の中心部から外周部に進むように洗浄ブラシ9の移動速度を可変に制御する。

Claim (excerpt)：

回転する基板の表面上の中心部から外周部の範囲または一方の外周部から中心部を経由して他方の外周部の範囲に処理具を移動させて前記基板の表面を処理する回転式基板処理装置において、前記処理具の移動速度を可変に制御する制御手段を設けたことを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/02

FI (4)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 B ,  B08B 1/04 ,  B08B 3/02 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特開平3-022428
  
• 特開昭64-076724
  
• 特開昭54-125981