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J-GLOBAL ID:200903073400282997

フォトクロミック薄膜およびその製造方法、並びにそれを用いた光機能素子

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000261744
Publication number (International publication number):2002069439
Application date: Aug. 30, 2000
Publication date: Mar. 08, 2002
Summary:
【要約】【課題】フォトクロミック化合物の光異性化反応における変換率を向上させ、大きな吸光度変化および屈折率変化を示すフォトクロミック薄膜と、上記フォトクロミック薄膜を用いて優れた光機能素子を得る。【解決手段】光照射により可逆的な光異性化反応を示すアモルファスのジアリールエテン系化合物などのフォトクロミック化合物から成り、開環したジアリールエテン化合物からなるフォトクロミック化合物に光照射することによって生成した閉環したジアリールエテン化合物を所定の基板表面に塗布形成することによって、開環したジアリールエテン化合物から閉環したジアリールエテン化合物への変換率が50%以上のフォトクロミック薄膜を得る。
Claim (excerpt):
光照射により可逆的な光異性化反応を示すフォトクロミック化合物から成り、光異性化反応による異性体への変換率が50%以上であることを特徴とするフォトクロミック薄膜。
IPC (2):
C09K 9/02 ,  G03C 1/73 503
FI (2):
C09K 9/02 B ,  G03C 1/73 503
F-Term (2):
2H123AA00 ,  2H123AA05
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (7)
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