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J-GLOBAL ID：200903073416438377

ベース電極の洗浄方法

Inventor： アンドレアス・エルシユナー ,  ロルフ・ベーアマン ,  ジークフリート・トウルム ,  マルテイン・ヒユパウフ ,  ブリギツテ・グロテ
Applicant, Patent owner： バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト ,  ロベルト・ボツシユ・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング
Agent (1)： 小田島 平吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997193358
Publication number (International publication number)：1998092585
Application date： Jul. 04, 1997
Publication date： Apr. 10, 1998
Summary：

【要約】【課題】 動作特性を改良する。【解決手段】 有機層の付着前にベース電極が、プラズマ反応器内の酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトンまたはそれらの混合物から選択されたプラズマガス中に曝されるエレクトロルミネッセンス発生装置のベース電極の洗浄。

Claim (excerpt)：

有機層の付着前に、ベース電極が、プラズマ反応器内において酸素、窒素、アルゴン、ヘリウム、ネオン、キセノン、クリプトン及びそれらの混合物から選択されたプラズマガスに曝されることを特徴とするエレクトロルミネッセンス発生装置のベース電極の洗浄方法。

IPC (3)：

H05B 33/26 ,  C09K 11/06 ,  H05B 33/10

FI (3)：

H05B 33/26 ,  C09K 11/06 Z ,  H05B 33/10