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J-GLOBAL ID:200903073437796532

電子ビ-ム計測用ナイフエッジ及びその製法並びに電子ビ-ム計測用ナイフエッジを用いた電子ビ-ム計測法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 田中 正治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1993273040
Publication number (International publication number):1995105889
Application date: Oct. 05, 1993
Publication date: Apr. 21, 1995
Summary:
【要約】 (修正有)【目的】 電子ビ-ムの径またはエッジずれを測定するのに用いる電子ビ-ム計測用ナイフエッジにおいて、電子ビ-ムの径が高精度に測定することにできるようにする。【構成】 平らな主面を有する基板本体14と、上記基板本体の主面15上に形成され且つ重元素を主成分とする第1の層18と軽元素を主成分とする第2の層17とが積層されている積層体16とを有し、上記基板本体の主面と直交する2つの面19,20上に延長している第1及び第2の面を有し且つ上記第1及び第2の層間の界面をナイフエッジ21としている。
Claim (excerpt):
平らな主面を有する基板本体と、上記基板本体の主面上に形成され且つ重元素を主成分とする第1の層と軽元素を主成分とする第2の層とが積層されている積層体とを有し、上記基板本体の主面と直交する2つの面上に延長している第1及び第2の面を有し且つ上記第1及び第2の層間の界面をナイフエッジとしている電子ビ-ム計測用ナイフエッジ。
IPC (2):
H01J 37/04 ,  G01T 1/29
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 特開平2-260355
  • 特開平3-280340
  • 特開昭52-051862
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