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J-GLOBAL ID：200903073479965326

化学蒸着装置

Inventor： 山本 浩史 ,  三宮 仁
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 藤本 博光
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996172379
Publication number (International publication number)：1998022518
Application date： Jul. 02, 1996
Publication date： Jan. 23, 1998
Summary：

【要約】【課題】 生産効率の大幅な低下を伴うことなく、装置を小型且つ簡易(安価)に構成することができると共に、成膜条件の変更に対しても柔軟に対応することができる化学蒸着装置を提供すること。【解決手段】 帯状の基板の一端側を収納する第1の基板収納手段と、前記帯状の基板の他端側を収納する第2の基板収納手段と、前記第1の基板収納手段と第2の基板収納手段との間に配設され、前記第1または第2の基板収納手段の一方から他方に向けて前記基板を送り出しながら前記基板の主面に複数種類の薄膜の何れかを選択的に形成する薄膜形成手段とを備え、前記薄膜の一層を形成する度に前記基板の送り出し方向を反転させると共に薄膜の種類を変えて、前記複数種類の薄膜を前記主面に順次積層して形成する。

Claim (excerpt)：

帯状の基板の一端側を収納する第1の基板収納手段と、前記帯状の基板の他端側を収納する第2の基板収納手段と、前記第1の基板収納手段と第2の基板収納手段との間に配設され、前記第1または第2の基板収納手段の一方から他方に向けて前記基板を送り出しながら前記基板の主面に複数種類の薄膜の何れかを選択的に形成する薄膜形成手段とを備え、前記薄膜の一層を形成する度に前記基板の送り出し方向を反転させると共に薄膜の種類を変えて、前記複数種類の薄膜を前記主面に順次積層して形成することを特徴とする化学蒸着装置。

IPC (3)：

H01L 31/04 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/205

FI (3)：

H01L 31/04 T ,  C23C 16/44 F ,  H01L 21/205