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J-GLOBAL ID：200903073486564124

毛髪化粧料

Inventor：
寺崎 博幸

About 寺崎 博幸


Applicant, Patent owner：
花王株式会社

About 花王株式会社


Agent (1)： 有賀 三幸 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000220668
Publication number (International publication number)：2002029938
Application date： Jul. 21, 2000
Publication date： Jan. 29, 2002
Summary：
【要約】【解決手段】 次の(A)〜(E):(A)有機酸 0.1〜20重量%、(B)ポリプロピレングリコール 0.1〜20重量%、(C)カチオン界面活性剤 0.5〜10重量%、(D)高級アルコール 1.0〜20重量%、(E)シリコーン 0.1〜10重量%を含有し、pHが4.5以下である毛髪化粧料。【効果】 安定性に優れ、毛髪に柔軟性、油性感を与えなめらかな感触に優れ、毛髪のツヤ等の光学的性質を改善する優れた毛髪コンディショニング効果を有し、毛髪に適用するときの使用感に優れる。
Claim (excerpt)：
次の(A)〜(E):(A)有機酸 0.1〜20重量%(B)ポリプロピレングリコール 0.1〜20重量%(C)カチオン界面活性剤 0.5〜10重量%(D)高級アルコール 1.0〜20重量%(E)シリコーン 0.1〜10重量%を含有し、pHが4.5以下である毛髪化粧料。
IPC (2)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/08
FI (2)：
A61K 7/06 ,  A61K 7/08
F-Term (24)：
4C083AB032 ,  4C083AB052 ,  4C083AC071 ,  4C083AC072 ,  4C083AC172 ,  4C083AC231 ,  4C083AC291 ,  4C083AC301 ,  4C083AC302 ,  4C083AC352 ,  4C083AC392 ,  4C083AC692 ,  4C083AD041 ,  4C083AD042 ,  4C083AD151 ,  4C083AD152 ,  4C083AD282 ,  4C083BB06 ,  4C083CC31 ,  4C083CC33 ,  4C083CC39 ,  4C083DD23 ,  4C083EE06 ,  4C083EE28
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
  • コンディショニングシャンプー組成物およびその製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-087585   Applicant：ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-320374   Applicant：花王株式会社
  • 毛髪化粧料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-282138   Applicant：株式会社資生堂
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