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J-GLOBAL ID:200903073502278978
核磁気共鳴法を用いた多孔質材料の迅速ナノレベル細孔評価方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 亀松 宏
, 西山 雅也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003193801
Publication number (International publication number):2005030808
Application date: Jul. 08, 2003
Publication date: Feb. 03, 2005
Summary:
【課題】多孔質材料において、ガス吸着等を支配する平均細孔径、ガス吸着量、吸着エンタルピー及びナノレベルの表面粗度を評価する方法を提供する。【解決手段】標準試料として平均細孔径が既知で、平均細孔径がそれぞれ異なる2以上の多孔体に対してガスを吸着させ、該各多孔体の該ガスの核磁気共鳴スペクトルを測定し、前記各多孔体の化学シフト値と平均細孔径との関係を求め第1の検量線とし、次に測定試料である多孔質材料に前記ガスと同じ種類のガスを吸着させ、該ガスの核磁気共鳴スペクトルを測定し、得られた化学シフト値と、前記第1の検量線から、該多孔質材料の平均細孔径を求めることを特徴とする核磁気共鳴法を用いた多孔質材料の評価方法である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
標準試料として平均細孔径が既知で、平均細孔径がそれぞれ異なる2以上の多孔体に対してガスを吸着させ、該各多孔体の該ガスの核磁気共鳴スペクトルを測定し、前記各多孔体の化学シフト値と平均細孔径との関係を求め第1の検量線とし、
次に、測定試料である多孔質材料に前記ガスと同じ種類のガスを吸着させ、該ガスの核磁気共鳴スペクトルを測定し、得られた化学シフト値と、前記第1の検量線から、該多孔質材料の平均細孔径を求めることを特徴とする核磁気共鳴法を用いた多孔質材料の迅速ナノレベル細孔評価方法。
IPC (3):
G01N24/08
, G01R33/28
, G01R33/31
FI (3):
G01N24/08 510P
, G01N24/02 B
, G01N24/02 510F
Patent cited by the Patent:
Article cited by the Patent:
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