Pat
J-GLOBAL ID:200903073515697007

真空ポンプ装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 川井 隆 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999018996
Publication number (International publication number):2000220595
Application date: Jan. 27, 1999
Publication date: Aug. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 ターボ分子ポンプ等の真空ポンプ装置内部の部材、例えばロータ翼やステータ翼のブレードの表面からブレード内部へ熱が伝達しないようにする。【解決手段】 ポンプ圧縮熱やヒータからの熱にさらされるターボ分子ポンプ装置1のロータ翼62又はステータ翼72のブレード12上に、熱の不良導体被膜からなる第一層13と、第一層13の表面の上に熱の良導体被膜からなる第二層14を形成する。この2層構造の被膜によって、熱の第二層14からブレード12への伝達を防ぐ。その結果ロータ翼62やステータ翼72のブレード12の表面が冷却されず、翼表面に付着・堆積しようとする半導体生成物が円滑に昇華される。
Claim (excerpt):
熱の不良導体被膜からなる第一の層と、この第一層の上に形成された熱の良導体被膜からなる第二の層と、の二層構造からなる被膜が真空ポンプ装置内の部材上に形成されていることを特徴する真空ポンプ装置。
FI (2):
F04D 19/04 G ,  F04D 19/04 E
F-Term (8):
3H031DA01 ,  3H031DA02 ,  3H031DA07 ,  3H031FA01 ,  3H031FA31 ,  3H031FA34 ,  3H031FA35 ,  3H031FA36

Return to Previous Page