Pat

J-GLOBAL ID：200903073522069674

レーザマーキング用マスク及びレーザマーキング用マスクの製造方法

Inventor： 中里 悦郎
Applicant, Patent owner： 直江津電子工業株式会社
Agent (1)： 早川 政名
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994118639
Publication number (International publication number)：1995323387
Application date： May. 31, 1994
Publication date： Dec. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】 透明ガラス基板の片面のみにクモリ状散乱部分によるパターンを形成することで、十分にレーザ光を遮光できるレーザマーキング用マスク、及びそのマスクを製造する方法を提供すること。【構成】 透明ガラス基板にレーザ光を透過する透明部分とレーザ光を散乱する散乱部分より形成されたパターンを有するレーザマーキング用マスクにおいて、前記散乱部分を透明ガラス基板の片面のみに形成すると共に、その散乱部分の表面形状は鋭角な山形の凹凸面とし、その鋭角な山形の凸部は単位面積当たり1×105 個/ mm2 〜2×105 個/ mm2 の割合で形成する。

Claim (excerpt)：

透明ガラス基板にレーザ光を透過する透明部分とレーザ光を散乱する散乱部分より形成されたパターンを有するレーザマーキング用マスクにおいて、前記散乱部分を透明ガラス基板の片面のみに形成すると共に、その散乱部分の表面形状は鋭角な山形の凹凸面とし、その鋭角な山形の凸部は単位面積当たり1×105 個/ mm2 〜2×105 個/ mm2 の割合で形成されていることを特徴とするレーザマーキング用マスク。

IPC (5)：

B23K 26/06 ,  B23K 26/00 ,  B44C 1/22 ,  C23F 1/00 ,  G02B 5/00