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J-GLOBAL ID：200903073537150583
光コネクターフェルールの研磨方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
柳田 征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996115867
Publication number (International publication number)：1997300192
Application date： May. 10, 1996
Publication date： Nov. 25, 1997
Summary：
【要約】【課題】 セラミックによるフェルールに光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートに研磨水溶液を供給した湿式研磨で凸状球面に研磨するについて、表面平滑性および段差のない研磨を行って低反射による伝達効率の向上を図る。【解決手段】 光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5と研磨水溶液16を用いて凸状球面に研磨するについて、光コネクターフェルール1の先端を研磨シート5上を摺動させる際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜25nmのシリカゲルと酸化セリウムを含む研磨水溶液16を供給して研磨する。
Claim (excerpt)：
フェルール穴に光ファイバーを挿入固定してなる光コネクターフェルールの先端を研磨シートと研磨水溶液を用いて凸状球面に研磨する光コネクターフェルールの研磨方法において、研磨の際に、研磨シート面に1次粒子の平均粒子径が1〜25nmのシリカゲルの分散物と酸化セリウムを含む研磨水溶液を供給することを特徴とする光コネクターフェルールの研磨方法。
IPC (2)：
FI (2)：
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