結像光学系及び光ヘッド装置及び光情報装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：小鍜治明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993193354
Publication number (International publication number)：1994103605
Application date： Aug. 04, 1993
Publication date： Apr. 15, 1994
Summary：

【要約】【目的】光源出力変更時の波長変動と非点隔差変動にもかかわらず焦点位置移動も非点収差の発生も起こらない光ヘッド装置を実現する。【構成】半導体レーザー21から出射した光ビーム3はコリメートレンズBによって略平行光になる。くさび型プリズム35によって光ビーム整形をされた後、ビームスプリッター36を透過してホログラムレンズ107と対物レンズ4に入射し情報媒体5上に集光される。情報媒体5で反射した光ビ-ムはもとの光路を逆にたどってビームスプリッター36で反射され、光検出器7に入射する。ホログラムレンズ107と対物レンズ4は駆動装置110によって一体駆動する。対物レンズ4の色収差を過補正することで、コリメートレンズの焦点距離の変化と半導体レーザーの非点隔差量が相殺し、半導体レーザーの出力を変えても情報媒体側での焦点位置が変化せず情報媒体上での非点収差も発生しない。

Claim (excerpt)：

半導体レーザー光源と、前記光源から出射される光ビームを受け情報媒体上へ微小スポットに収束する結像光学系であって、前記情報媒体近くに配置された対物レンズは屈折型レンズとホログラムレンズの組み合わせからなり、前記ホログラムレンズは位相型の回折素子であり、前記ホログラムレンズのホログラムパターンは同心円状であり、前記ホログラムパターンの中心が、前記対物レンズの中心とほぼ一致していることを特徴とする結像光学系。

IPC (2)：

G11B 7/135 , G02B 5/32

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (14)

特開平3-016039
特開平4-132024
特開平4-132024

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