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J-GLOBAL ID:200903073554257111

純水製造装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 重野 剛
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1996113627
Publication number (International publication number):1997294988
Application date: May. 08, 1996
Publication date: Nov. 18, 1997
Summary:
【要約】【課題】 DIを備える純水製造装置において、処理水質を低下させることなく、DIの濃縮水及び電極水を回収処理する。【解決手段】 DI2からの濃縮水を脱炭酸塔4で脱炭酸処理し、RO装置1でRO処理した後DI2に送給する。DI2の電極水を活性炭塔5で脱塩素処理した後、脱炭酸塔4に戻す。【効果】 濃縮水及び電極水中の炭酸成分及びイオン類を効率的に除去することができるため、濃縮水及び電極水の循環によるDIのイオン負荷の増加が防止される。酸化性のCl2 を含む電極水を脱塩素処理することにより、RO膜の酸化劣化を防止できる。水回収率を高めても、DI処理水質が低下することはなく、高水質の処理水を安定かつ効率的に得ることができる。
Claim (excerpt):
原水を脱炭酸処理する脱炭酸手段と、該脱炭酸手段の処理水を逆浸透膜分離処理する逆浸透膜分離手段と、該逆浸透膜分離手段の透過水を脱イオン処理する電気脱イオン装置とを備える純水製造装置であって、該電気脱イオン装置から排出される濃縮水を前記脱炭酸手段に送給する手段と、該電気脱イオン装置から排出される電極水を脱塩素処理する脱塩素手段と、該脱塩素手段の処理水を前記脱炭酸手段に送給する手段とを設けたことを特徴とする純水製造装置。
IPC (5):
C02F 1/469 ,  B01D 61/04 ,  C02F 1/20 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/44
FI (5):
C02F 1/46 103 ,  B01D 61/04 ,  C02F 1/20 A ,  C02F 1/28 F ,  C02F 1/44 A

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