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J-GLOBAL ID：200903073575335643

エチレンポリマー及びその製造方法

Inventor： ジヤン クロード ベイリイ ,  ラスズロ ハバ ,  ステイリアノ サンデイ ,  アラン ブラヤ ,  ピエール クロウゼ
Applicant, Patent owner： ベペ シミイ ソシエテ アノニム
Agent (1)： 浅村 皓 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994323345
Publication number (International publication number)：1995196720
Application date： Jun. 24, 1983
Publication date： Aug. 01, 1995
Summary：

【要約】【目的】 無機質残渣の含有量が極めて低いエチレン(コ)ポリマーを得る。【構成】 エチレンホモポリマー、またはエチレンを主体として3〜8個の炭素原子を有する1種または1種以上のα-オレフィンのコポリマーであって、該ポリマー1グラム当たり5×10-4ミリモルよりも少ない含有量のチタンを含み、350ppmより少ない無機質残渣含有量及び0.45〜0.52g/cm3 の嵩密度を有し、質量平均直径Dm が300〜1,500ミクロンであり、質量平均直径Dm 対数平均直径Dn の比が3.5より少ないかまたは3.5に等しいことを特徴とする粉末の形のポリマーを能率的に製造することができる。

Claim (excerpt)：

エチレンホモポリマー、またはエチレンを主体として3〜8個の炭素原子を有する1種または1種以上のα-オレフィンのコポリマーであって、該ポリマー1グラム当たり5×10-4ミリモルよりも少ない含有量のチタンを含み、350ppmより少ない無機質残渣含有量及び0.45〜0.52g/cm3 の嵩密度を有し、質量平均直径Dm が300〜1,500ミクロンであり、質量平均直径Dm 対数平均直径Dn の比が3.5より少ないかまたは3.5に等しいことを特徴とする粉末の形のポリマー。

IPC (3)：

C08F 4/654 MFG ,  C08F 2/34 MCG ,  C08F 10/00

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭56-143207
  
• 特開昭55-090515
  
• 特開昭57-126808
  
• 特開昭57-067611
  
• 特開昭58-027710