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J-GLOBAL ID:200903073615788905

スルホン酸基含有ポリイミド、ならびにこれを用いた組成物、高分子電解質膜および燃料電池

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (7): 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006186649
Publication number (International publication number):2008013668
Application date: Jul. 06, 2006
Publication date: Jan. 24, 2008
Summary:
【課題】低いメタノール透過性と高いプロトン伝導性を併せ持つとともに、高い耐熱性をも有する高分子電解質膜を実現できるスルホン酸基含有ポリイミドを提供する。【解決手段】ポリイミドの繰り返し単位中に下記一般式(II)で表されるジアミン残基を導入する。一般式(II)において、Wの少なくとも一部は-R-SO3H(Rはアルキル基)であり;R1、R2、及びR3は例えばアルキル基又は水素原子であり;R4、R5、R6、及びR7は例えばアルキル基または水素原子であり;Xは例えば-CH2-であり;nは1以上の整数である。[化1]【選択図】なし
Claim (excerpt):
下記一般式(I)
IPC (6):
C08G 73/10 ,  H01M 8/02 ,  H01M 8/10 ,  H01B 1/06 ,  C08L 79/08 ,  C08L 63/00
FI (6):
C08G73/10 ,  H01M8/02 P ,  H01M8/10 ,  H01B1/06 A ,  C08L79/08 Z ,  C08L63/00 A
F-Term (57):
4J002CD00X ,  4J002CM04W ,  4J002FD140 ,  4J002GQ00 ,  4J002GQ05 ,  4J043PA02 ,  4J043PA04 ,  4J043PC186 ,  4J043QB15 ,  4J043QB26 ,  4J043QB31 ,  4J043RA35 ,  4J043SA06 ,  4J043SA42 ,  4J043SA43 ,  4J043SA71 ,  4J043SB01 ,  4J043SB03 ,  4J043TA22 ,  4J043TB01 ,  4J043UA121 ,  4J043UA122 ,  4J043UA131 ,  4J043UA132 ,  4J043UA141 ,  4J043UA151 ,  4J043UB011 ,  4J043UB012 ,  4J043UB021 ,  4J043UB022 ,  4J043UB062 ,  4J043UB122 ,  4J043UB131 ,  4J043UB152 ,  4J043UB302 ,  4J043UB352 ,  4J043UB402 ,  4J043VA011 ,  4J043VA021 ,  4J043VA041 ,  4J043VA051 ,  4J043VA061 ,  4J043VA081 ,  4J043XA16 ,  4J043YB08 ,  4J043YB37 ,  4J043ZA41 ,  4J043ZA45 ,  4J043ZB11 ,  4J043ZB47 ,  4J043ZB60 ,  5G301CD01 ,  5G301CE01 ,  5H026AA08 ,  5H026CX05 ,  5H026EE18 ,  5H026HH05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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