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J-GLOBAL ID：200903073665596128

真空蒸着装置

Inventor： 高津 和正 ,  高倉 英夫 ,  上野 和則
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 渡辺 徳廣
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999139110
Publication number (International publication number)：2000328229
Application date： May. 19, 1999
Publication date： Nov. 28, 2000
Summary：

【要約】【課題】 マスキング板に堆積した有機膜又は有機金属膜を容易に除去することができる真空蒸着装置を提供する。【解決手段】 蒸発源を備え、該蒸発源より有機材料又は有機金属材料を蒸発させ、基板上の特定部のみに有機膜又は有機金属膜を堆積させるマスキング板を使用する真空蒸着装置において、真空蒸着によりマスキング板に堆積した有機膜又は有機金属膜をプラズマの存在下で除去する手段を具備した真空蒸着装置。

Claim (excerpt)：

蒸発源を備え、該蒸発源より有機材料又は有機金属材料を蒸発させ、基板上の特定部のみに有機膜又は有機金属膜を堆積させるマスキング板を使用する真空蒸着装置において、真空蒸着によりマスキング板に堆積した有機膜又は有機金属膜をプラズマの存在下で除去する手段を具備したことを特徴とする真空蒸着装置。

IPC (3)：

C23C 14/04 ,  C23F 4/00 ,  G09F 9/00 342

FI (3)：

C23C 14/04 A ,  C23F 4/00 A ,  G09F 9/00 342 C

F-Term (15)：

4K029BA62 ,  4K029CA01 ,  4K029DA09 ,  4K029DA12 ,  4K029HA03 ,  4K057DA01 ,  4K057DB17 ,  4K057DD01 ,  4K057DE20 ,  4K057DM40 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435EE33 ,  5G435KK05 ,  5G435KK10