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J-GLOBAL ID：200903073693865070
コードパターンラベル
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
塩澤 寿夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992183208
Publication number (International publication number)：1994004027
Application date： Jun. 17, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：
【要約】【目的】 種々の対象物にその都度印刷する煩雑さを回避でき、かつ物理的、化学的損傷から保護された耐候性に優れた不可視コードパターンの提供。【構成】 基材、該基材の少なくとも1つの面上の少なくとも1部に設けたコードパターン及び少なくとも該コードパターン上に設けた被覆層からなるコードパターンラベルであって、上記コードパターンが可視光領域に実質的に吸収領域を有さない蛍光顔料並びに該蛍光顔料の励起光及び上記蛍光顔料の発光光の一部又は全部を透過するビヒクルを含む前記コードパターンラベル。蛍光顔料としては、例えばZnO:Znを用い、ビヒクルとしては光重合硬化型又は電子線硬化型のアクリル系樹脂を例示できる。
Claim (excerpt)：
基材、該基材の少なくとも1つの面上の少なくとも1部に設けたコードパターン及び少なくとも該コードパターン上に設けた被覆層からなるコードパターンラベルであって、上記コードパターンが可視光領域に実質的に吸収領域を有さない蛍光顔料並びに該蛍光顔料の励起光及び上記蛍光顔料の発光光の一部又は全部を透過するビヒクルを含む前記コードパターンラベル。
IPC (5)：
G09F 3/00
, G06K 1/12
, G06K 19/06
, G09F 3/02
, B42D 15/10 501
