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J-GLOBAL ID：200903073699442944
セラミック素子の焼成方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
菅野 中
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997130072
Publication number (International publication number)：1998324574
Application date： May. 20, 1997
Publication date： Dec. 08, 1998
Summary：
【要約】【課題】 セラミック素子の焼成方法において、焼成時の素子の上下面の雰囲気の違いから発生するセラミック素子の反りを抑制する。【解決手段】 焼成過程におけるセラミック素子1の収縮特性と同じ焼結収縮特性を有する未焼結セラミックを支柱2aとしてセラミック素子1の周りに配置し、前記セラミック素子1と上方に位置するセッター4間に 定の空隙を設け、セラミック素子を焼成する。
Claim (excerpt)：
セラミック素子をセッター上に多段積みに搭載して焼成するセラミック素子の焼成方法であって、焼成過程におけるセラミック素子の収縮特性と同じ焼結収縮特性を有する未焼結セラミックを支柱としてセラミック素子の周りに配置し、前記セラミック素子と上方に位置するセッター間に前記セラミック支柱により一定の空隙を設けてセラミック素子を焼成することを特徴とするセラミック素子の焼成方法。
IPC (2)：
FI (2)：
C04B 35/64 J
, F27D 3/12 S
