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J-GLOBAL ID：200903073732624999

ビーム整形及びビーム分離装置

Inventor： 小林 章兵 ,  宮崎 靖浩
Applicant, Patent owner： オリンパス光学工業株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993125941
Publication number (International publication number)：1994168478
Application date： May. 27, 1993
Publication date： Jun. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】ビーム整形ができると共に、入射ビームの光路と戻りビームの光路を僅かな角度だけ分離することができるビーム整形及びビーム分離装置を提供する。【構成】入射ビームの断面形状を整形して出射すると共に、反射面で反射した戻りビームの光路を入射ビームの光路より分離する単体プリズムを用いるビーム整形及びビーム分離装置であって、前記プリズムの材料を非等方性部材とした。

Claim (excerpt)：

入射ビームの断面形状を整形して出射するとともに、反射面で反射した戻りビームの光路を前記入射ビームの光路より分離するプリズムを用いるビーム整形及びビーム分離装置において、前記プリズムは単体プリズムであって、その材質を非等方性部材とし、前記単体プリズムを用いて前記入射ビームの整形及び前記戻りビームの分離を行うことを特徴とするビーム整形およびビーム分離装置。

IPC (3)：

G11B 7/135 ,  G02B 27/00 ,  G11B 11/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 光ヘッド装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-093507   Applicant：ソニー株式会社
• 特開平4-328339
  
• 特開平3-192553
  
• 特開平4-301245