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J-GLOBAL ID：200903073753113250

可溶性ガス成分の除去装置及びその運転方法

Inventor：
稲葉 仁

About 稲葉 仁

, 
田中 雄造

About 田中 雄造


Applicant, Patent owner：
高砂熱学工業株式会社

About 高砂熱学工業株式会社


Agent (1)： 金本 哲男 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002141133
Publication number (International publication number)：2003334416
Application date： May. 16, 2002
Publication date： Nov. 25, 2003
Summary：
【要約】【課題】 気液接触によって可溶性ガス成分を除去するにあたり,除去性能を従来より向上させる。【解決手段】 チャンバ2内に,第1の気液接触部3と第2の気液接触部4とが直列に配置されている。第1の気液接触部3と第2の気液接触部4で各々気液接触させた後の吸収液は各々ピット5,6によって独立して回収され,独立した循環系配管31,33によって,対応するスプレーノズル11,12に供給される。外部からの補給水は,電解水製造装置41によって酸性水とアルカリ水とに分離され,一方はピット5に,他方はピット6に補給される。
Claim (excerpt)：
気体中に含まれる可溶性ガス成分を,吸収液との気液接触によって除去する装置であって,可溶性ガス成分を含む気体が流通する流路と,前記流路に配置された第1の気液接触部と,当該第1の気液接触部の下流側に配置された第2の気液接触部と,第1の気液接触部と第2の気液接触部で各々気液接触させた後の吸収液を各々独立して回収して,再び第1の気液接触部と第2の気液接触部に独立して供給する吸収液の循環系とを有し,外部から供給する補給水から酸性水とアルカリ水とを生成し,生成した酸性水を一方の気液接触部の吸収液の循環系に補給し,生成したアルカリ水を他方の気液接触部の吸収液の循環系に補給するようにしたことを特徴とする,可溶性ガス成分の除去装置。
IPC (3)：
B01D 53/14 102 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/46
FI (3)：
B01D 53/14 102 ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/46 A
F-Term (21)：
4D020AA06 ,  4D020AA10 ,  4D020BA23 ,  4D020BA30 ,  4D020BB03 ,  4D020BC03 ,  4D020CB08 ,  4D020CB25 ,  4D020CC02 ,  4D020CC30 ,  4D020DA02 ,  4D020DB08 ,  4D025AA01 ,  4D025AA04 ,  4D025AA10 ,  4D025BA24 ,  4D025CA03 ,  4D061DA01 ,  4D061DA10 ,  4D061DB07 ,  4D061EA01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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