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J-GLOBAL ID：200903073757143693

現像装置

Inventor： 安斉 彰洋
Applicant, Patent owner： 日本コロムビア株式会社
Agent (1)： 林 實
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994340541
Publication number (International publication number)：1996180471
Application date： Dec. 27, 1994
Publication date： Jul. 12, 1996
Summary：

【要約】【目的】光源及びガラス基板若しくはフォトレジスト層の厚みむらに起因する光量変動をモニタ光から除外することができる現像装置を提供する。【構成】光源1からの光量として扱えるレーザ光B11をモニタする受光素子A4と、透過0次光13をモニタする受光素子B7と、反射0次光14をモニタする受光素子C8を有し、これらの受光素子からの出力から、光源1及びガラス基板5若しくはフォトレジスト層6の厚みむらに起因する光量変動を、演算回路17及び演算回路18で演算し、モニタ光から除外して、現像進行状態を回折光を用いることなくモニタすることができる。

Claim (excerpt)：

光ディスクのマスタリング工程における記録信号によって露光済みの光感応膜を有する光ディスク原盤を回転させるとともに、前記光感応膜上に現像液を供給し、該現像液で前記光感応膜の露光部を現像しながら、該露光部にモニター用のレーザ光を照射して現像の進行状態を監視する現像装置において、前記レーザ光を第1のビームと第2のビームに分離する分離手段と、前記第1のビームの光量を検出するための第1の受光素子と、前記第2のビームの前記原盤からの透過0次光の光量を検出するための第2の受光素子と、前記第2のビームの前記原盤からの反射0次光の光量を検出するための第3の受光素子と、前記第1の受光素子の出力から前記レーザ光の光源の光量変動を測定し、前記第2及び第3の受光素子の出力を補正するための第1の演算手段と、該第1の演算手段により前記透過0次光の光量及び前記反射0次光の光量の補正を行うとともに、前記原盤1回転あたりの光量の変化量を検出し、その平均値を演算し、前記透過0次光の光量及び前記反射0次光の光量の変動を補正するための第2の演算手段と、補正された前記透過0次光の光量及び前記反射0次光の光量の両者が基準値と一致した場合に現像液の塗布を停止する現像液供給制御手段とを有することを特徴とする現像装置。

IPC (2)：

G11B 7/26 501 ,  G03F 7/30 501