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J-GLOBAL ID：200903073790734729

積層磁性膜およびそれを用いた磁気ヘツドならびに磁気記録・再生装置

Inventor： 藤原 英夫 ,  光岡 勝也 ,  杉田 愃
Applicant, Patent owner： 日立マクセル株式会社 ,  株式会社日立製作所
Agent (1)： 武 顕次郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992210320
Publication number (International publication number)：1994061050
Application date： Aug. 06, 1992
Publication date： Mar. 04, 1994
Summary：

【要約】【目的】 磁界感度の高い積層磁性膜ならびに磁気ヘツド(磁気記録・再生装置)を提供することにある。【構成】 少なくとも2層以上の磁性膜5,7が介在膜6,8を介して積層された積層磁性膜において、前記介在膜6,8が、遷移金属と、その遷移金属とヘテロジニスな混合体を形成しやすい物質とを含有している。

Claim (excerpt)：

少なくとも、2層以上の磁性膜が介在膜を介して積層された積層磁性膜において、前記介在膜が、遷移金属と、その遷移金属とヘテロジニアスな混合体を形成しやすい物質とを含有していることを特徴とする積層磁性膜。

IPC (5)：

H01F 10/16 ,  G11B 5/31 ,  G11B 5/39 ,  H01F 10/14 ,  H01L 43/08