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J-GLOBAL ID:200903073792663829

光触媒塗膜用下地塗料組成物及び光触媒塗装製品並びに光触媒塗装製品の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 成瀬 勝夫 ,  中村 智廣 ,  小泉 雅裕
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003113905
Publication number (International publication number):2004315722
Application date: Apr. 18, 2003
Publication date: Nov. 11, 2004
Summary:
【課題】光触媒劣化、紫外線劣化及び金属腐食の問題をそれぞれ解決することができ、また、基材の表面に対してだけでなく光触媒塗膜層に対しても優れた密着性を発揮し、しかも、必要により優れた透明性を維持できる光触媒塗膜用下地塗料組成物を提供する。【解決手段】基材の表面に光触媒塗膜層を形成する際にこの基材の表面と光触媒塗膜層との間に下地塗膜層を形成するための下地塗装用塗料組成物であり、アルコール系溶剤と、下地塗膜を形成する固形分と、加水分解触媒及び水とからなり、上記下地塗膜を形成する固形分の組成が無機質造膜剤10〜40質量%、珪素酸化物50〜87質量%及び紫外線吸収剤3〜30質量%であり、上記紫外線吸収剤が表面を光不活性無機物で被覆された金属酸化物半導体微粒子からなる表面処理半導体微粒子であり、また、上記無機質造膜剤のSi5O4(OH)12換算1molに対して、上記加水分解触媒の添加割合が0.05〜0.5molであって水の添加割合が0.1〜2molである、光触媒塗膜用下地塗料組成物である。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
基材の表面に光触媒塗膜層を形成する際にこの基材の表面と光触媒塗膜層との間に下地塗膜層を形成するための下地塗装用塗料組成物であり、アルコール系溶剤と、下地塗膜を形成する固形分と、加水分解触媒及び水とからなり、上記下地塗膜を形成する固形分の組成が無機質造膜剤10〜40質量%、珪素酸化物50〜87質量%及び紫外線吸収剤3〜30質量%であり、上記紫外線吸収剤が表面を光不活性無機物で被覆された金属酸化物半導体微粒子からなる表面処理半導体微粒子であり、また、上記無機質造膜剤のSi5O4(OH)12換算1molに対して、上記加水分解触媒の添加割合が0.05〜0.5molであって水の添加割合が0.1〜2molであることを特徴とする光触媒塗膜用下地塗料組成物。
IPC (5):
C09D183/04 ,  B01J35/02 ,  C09D5/00 ,  C09D5/16 ,  C09D7/12
FI (5):
C09D183/04 ,  B01J35/02 J ,  C09D5/00 D ,  C09D5/16 ,  C09D7/12
F-Term (19):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA02B ,  4G069BA04B ,  4G069BA48A ,  4G069EA08 ,  4G069FA03 ,  4G069FA04 ,  4J038DL031 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038KA12 ,  4J038KA15 ,  4J038MA08 ,  4J038NA05 ,  4J038NA06 ,  4J038PB05

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